Кремний - основа для производства многих полупроводниковых приборов. Компания ООО "Актив-Сэплай" предлагает к поставке высококачественные кремниевые пластины полученные методом CZ (Чохральского) илм методом FZ (зонной плавки). Такие кремниевые подложки применяются в высокотехнологичных отраслях производства и используются для изготовления микросхем, дискретных полупроводниковых устройтсв, МЭМС датчиков и проч. Мы можем обеспечить потребность клиента как в стандартных, так и в нестандартных кремниевых пластинах согласно техническому заданию заказчика.
Последние достижения в данной области позволяют производить пластины диаметром до 450мм. Применение таких заготовок приводит к снижению себестоимости производства микросхем. Основные характеристики поставляемых кремниевых пластин приведены ниже:
Диаметр пластины: от 25 до 450 мм
Метод получения: Чохральского, зонной плавки
Удельное сопротивление: 0,001 - 12000 Ом*см
Легирующая примесь: P, B, As, Sb
Тип проводимости: P, N
Расположение срезов: 1, 2 или по SEMI
Толщина пластины: 10 - 12000 мкм
Кристаллографическая ориентация: (100); (110); (111)
Разнотолщинность TTV: менее 1 мкм - 20 мкм
Полировка: односторонняя, двухсторонняя
Шероховатость поверхности: <0.5 нм