Материалы для литографии

Фоторезисты и электронные резисты

ООО "Актив-Сэплай" поставляет специализированные химические материалы для кристального производства и материалы для литографии: фоторезисты, электронные резисты, проявители, травители, диэлектрики и другие виды материалов для фотолитографии. В перечень поставляемой продукции входят такие производители Microchem, Microresist Technology, Dow Chemical, Dow Corning, Allresist GmbH и AZ Electronic Materials. Благодаря работы напрямую с заводами-производителями и их официальными представителями мы позволяем нашим клиентам получить доступ к материалам для литографии на наиболее выгодных условиях. Мы имеем многолетний опыт прямых поставок, а также участия в госзакупках и поставок для нужд гособоронзаказа. 

Наша линия поставок фоторезистов и других материалов для кристального производства рассчитана на научные и производственные предприятия РФ и стран Таможенного Союза, которые успешно освоили, либо находятся в процессе освоения производства полупроводниковых устройств на базе различных техпроцессов (включая i-line 365nm). 

Для того, чтобы создать топологию полупроводниковой пластины используется набор процессов под названием литография. Фотолиторгафия является ниболее важным и одним из самых сложных и трудоемких процессов в производстве полупроводниковых устройств и интегральных схем. Существует несколько видов фотолитографии, которые отличаются способом формирования изображения на пластине (электронная фотолитография, проекционная, контактная, импринтная литография, обратная или взывная). Каждый вид нуждается в особых оптимизированных фоторезистов.

Как было сказано выше, топологию или рисунок будущей интегральной схемы формирует фотолитографический рисунок, который переносится с фотошаблона на слой фоторезиста, который является чувствительным к УФ или другому виду излучения. Фоторезисты можно разделить на две группы: позитивные и негативные. Их наносят на поверхность диэлектрика с помощью нескольких способов - центрифугирование, напыление или возгонка. Следующим этапом идет экспонирование свкозь фотошаблон при помощи лазерного излучения или ртутных ламп. Когда просиходит проявление, облученный или необлученный (позитивный или негативный) фоторезист удаляют с поверхности специальным растворителем, а рисунок, который остался на поверхности подвергается термической обработке, тем самым увеличивая стойкость и прочность. Завершается данный этап рядом других высокотехнологичных процедур.

Важнейшим фактором успеха является использование фоторезистов и реагентов, совместимых и подходящих под используемый техпроцесс. Наши технические специалисты готовы оказать помощь в подборе необходимых материалов для литографии, а отдел продаж сообщит по Вашему запросу цену и минимально возможные сроки поставки.